PCB沉金工藝流程簡(jiǎn)介概述
- 發(fā)布時(shí)間:2025-05-21 16:23:13
- 瀏覽量:247
PCB沉金(化學(xué)鍍鎳浸金,ENIG)是一種常見(jiàn)的表面處理工藝,主要用于提升PCB焊盤(pán)的可焊性、平整度及抗氧化性。以下是其工藝流程的概述:
1. 前處理
-
清潔與除油:去除銅面氧化層、油污及雜質(zhì),通常采用酸性或堿性清洗劑。
-
微蝕:通過(guò)微蝕液(如過(guò)硫酸鈉或硫酸雙氧水)輕微腐蝕銅面,形成微觀粗糙度,增強(qiáng)后續(xù)鍍層附著力。
-
水洗:多次水洗確保表面潔凈。
2. 化學(xué)鍍鎳(Ni沉積)
-
原理:通過(guò)自催化化學(xué)反應(yīng)在銅面沉積一層均勻的鎳磷合金(Ni-P,磷含量6-9%)。
-
關(guān)鍵參數(shù):
-
溫度:85-95℃
-
pH值:4.5-5.5
-
時(shí)間:15-30分鐘(控制鎳層厚度3-6μm)
-
-
作用:提供可焊性基底,防止銅擴(kuò)散,增強(qiáng)耐腐蝕性。
3. 浸金(Au沉積)
-
原理:利用置換反應(yīng)在鎳層表面置換出一層薄金(0.05-0.15μm)。
-
關(guān)鍵參數(shù):
-
溫度:80-90℃
-
pH值:4.0-5.0
-
時(shí)間:5-10分鐘
-
-
作用:保護(hù)鎳層不被氧化,提供低接觸電阻的焊接表面。
4. 后處理
-
水洗與干燥:徹底清洗殘留藥液,熱風(fēng)烘干。
-
檢驗(yàn):
-
厚度測(cè)試(XRF或切片分析)
-
結(jié)合力測(cè)試(膠帶剝離)
-
外觀檢查(無(wú)黑盤(pán)、空洞、漏鍍等缺陷)。
-
沉金工藝特點(diǎn)
優(yōu)點(diǎn):
-
高平整度:適合高密度BGA、QFP等精細(xì)元件焊接。
-
抗氧化性強(qiáng):存儲(chǔ)時(shí)間長(zhǎng)(6-12個(gè)月)。
-
接觸性能好:適用于金手指、連接器等高頻/高可靠性場(chǎng)景。
缺點(diǎn):
-
成本高:金價(jià)格昂貴,工藝復(fù)雜。
-
黑盤(pán)風(fēng)險(xiǎn):鎳層過(guò)度腐蝕可能導(dǎo)致焊接不良(需嚴(yán)格控制工藝參數(shù))。
應(yīng)用場(chǎng)景
-
高密度互連(HDI)板、柔性板(FPC)。
-
高頻/高速信號(hào)傳輸(如5G、射頻模塊)。
-
金手指、測(cè)試點(diǎn)、接觸式連接器等需要多次插拔的場(chǎng)景。
總結(jié)
沉金工藝通過(guò)鎳層提供機(jī)械支撐和可焊性,金層保障抗氧化性,是高端PCB制造的關(guān)鍵技術(shù),尤其適用于對(duì)可靠性和信號(hào)完整性要求高的電子產(chǎn)品。需嚴(yán)格控制各環(huán)節(jié)參數(shù)以避免缺陷(如黑盤(pán)),并平衡成本與性能需求。
免責(zé)聲明:部分文章信息來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)以及網(wǎng)友投稿,本網(wǎng)站只負(fù)責(zé)對(duì)文章進(jìn)行整理、排版、編輯,意為分享交流傳遞信息,并不意味著贊同其觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性,如本站文章和轉(zhuǎn)稿涉及版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)作者在及時(shí)聯(lián)系本站,我們會(huì)盡快和您對(duì)接處理。
