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PCB沉金工藝流程簡(jiǎn)介前處理

  • 發(fā)布時(shí)間:2025-05-22 16:20:47
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PCB沉金(化學(xué)鍍鎳浸金,ENIG)工藝中的前處理是確保后續(xù)金屬沉積質(zhì)量的關(guān)鍵步驟,直接影響鍍層的結(jié)合力、平整性和耐腐蝕性。以下為前處理流程的詳細(xì)介紹及注意事項(xiàng):


1. 除油(Degreasing)

  • 目的:去除銅箔表面的油脂、指紋、灰塵及有機(jī)污染物,確保銅面潔凈。

  • 方法

    • 使用酸性或堿性除油劑(如堿性脫脂液),通過化學(xué)浸泡或噴淋方式處理。

    • 溫度通??刂圃?0-60℃,時(shí)間約3-5分鐘。

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 若除油不徹底,會(huì)導(dǎo)致后續(xù)微蝕不均勻,甚至鍍層起泡脫落。

    • 需定期更換藥液,避免雜質(zhì)積累影響效果。


2. 水洗(Rinsing)

  • 目的:徹底清除殘留的除油劑,避免交叉污染。

  • 方法

    • 采用多級(jí)逆流水洗(如DI水),至少2-3道水洗槽,每道水洗時(shí)間1-2分鐘。

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 水洗不充分會(huì)導(dǎo)致微蝕槽污染,縮短藥液壽命。

    • 監(jiān)測(cè)水質(zhì)電導(dǎo)率(通常<50 μS/cm),確保清潔度。


3. 微蝕(Microetching)

  • 目的:輕微腐蝕銅面,增加表面粗糙度,增強(qiáng)鍍層結(jié)合力;同時(shí)去除氧化層。

  • 方法

    • 常用藥液:過硫酸鈉(Na?S?O?)或雙氧水-硫酸(H?O?-H?SO?)體系。

    • 微蝕深度控制在0.5-2.0 μm,時(shí)間1-2分鐘(需根據(jù)藥液濃度調(diào)整)。

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 過蝕會(huì)導(dǎo)致銅面粗糙過度,影響線路精度;欠蝕則結(jié)合力不足。

    • 定期分析微蝕速率(如銅溶解量測(cè)試),調(diào)整藥液濃度。


4. 二次水洗

  • 目的:去除微蝕后的殘留藥液及反應(yīng)產(chǎn)物(如銅離子)。

  • 方法:同步驟2,需確保水洗充分。

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 若殘留過硫酸鈉,會(huì)污染后續(xù)酸洗槽,導(dǎo)致銅面鈍化。


5. 酸洗(Acid Cleaning)

  • 目的:活化銅面,去除輕微氧化層,確保銅處于活性狀態(tài)。

  • 方法

    • 使用5-10%稀硫酸(H?SO?)浸泡,時(shí)間30-60秒。

    • 或采用有機(jī)酸(如檸檬酸)以降低腐蝕性。

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 酸洗后需徹底水洗,避免硫酸殘留影響沉鎳液穩(wěn)定性。

    • 銅面若長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中,需縮短轉(zhuǎn)移時(shí)間至沉金槽(<15分鐘)。


6. 最終水洗與干燥

  • 目的:徹底清潔表面,避免污染物帶入沉鎳金槽。

  • 方法

    • 高壓噴淋+DI水浸泡,必要時(shí)使用熱風(fēng)或氮?dú)飧稍铩?/p>

  • 關(guān)鍵點(diǎn)

    • 若銅面殘留水分,可能稀釋沉鎳藥液,影響反應(yīng)效率。


前處理常見問題與對(duì)策

  1. 鍍層結(jié)合力差

    • 檢查除油和微蝕效果,優(yōu)化藥液濃度及時(shí)間。

  2. 銅面氧化

    • 縮短工序間隔時(shí)間,酸洗后立即進(jìn)入沉鎳步驟。

  3. 鍍層針孔/粗糙

    • 排查水洗是否徹底,微蝕是否均勻。


總結(jié)

前處理是沉金工藝的基石,需嚴(yán)格控制各步驟參數(shù)(濃度、溫度、時(shí)間)及水洗質(zhì)量。通過精細(xì)化管理,可顯著提升鍍層均勻性、結(jié)合力及產(chǎn)品可靠性,減少后續(xù)工藝缺

THE END
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